掩模对准器的对准系统

高精度对准系统的制造需要近乎完美的精密机械工艺，这也是国产光刻机所能匹配的技术难点之一。很多美国德国品牌的光刻机都有专门的专利机械工艺设计。比如mycon &；q光刻机采用全气动轴承设计专利技术，有效避免轴承机械摩擦带来的工艺误差。

对准系统的另一个技术问题是对准显微镜。为了增强显微镜的视野，很多高端光刻机都采用了LED照明。

有两套带聚焦功能的对准系统。主要是1对显微镜主体、目镜和物镜采用双目双视场对准(光刻机通常提供不同放大率的目镜和物镜供用户组合使用)。

CCD对准系统的作用是放大掩模和样品的对准标记，并在监视器上成像。

顾名思义，工件台是放置工件的平台，光刻工艺中最重要的工件就是掩膜版和衬底。

工作台是光刻机的关键部件，由掩模样品移动台(XY)、掩模样品相对移动台(XY)、旋转台、样品调平机构、样品聚焦机构、晶片承载台、掩模夹具和绘图掩模台组成。

其中，样品调平机构包括球座和半球。调平过程中，首先向球座和半球中通入加压空气，然后通过调焦手轮向上移动球座、半球和样品，使样品紧靠掩模调平样品，然后二位三通电磁阀切换到真空，锁紧球座和半球，保持调平状态。

样品聚焦机构由聚焦手轮、杠杆机构和上升直线导轨等组成。在调平上升过程中，初始焦点是聚焦的，调平完成后，样品和掩膜之间会产生一定的间隙，所以需要对焦点进行微调。另一方面，调平后需要分出一定的对准间隙，对焦点进行微调。

掩模台主要用于快速装卸，由燕尾导轨、定位挡块和锁紧手轮组成。

根据不同的样品和掩模尺寸来设计晶片台和掩模支架。