直拉硅为什么需要涂钡？有没有其他涂层可以替代？

涂钡就是在坩埚内壁涂上一层带结晶水的氢氧化钡，具体来说应该是(BaOH2。8H2O)，结晶水的数量记不太清楚了。

然后氢氧化钡与空气反应生成碳酸钡，碳酸钡在炉内高温分解，与硅液反应生成硅酸钡。

硅酸钡为白色沉淀，结构为正交晶体结构，有一个价键和两个极性化合物键。结构紧凑。

附着在坩埚内壁上以防止坩埚透明层中的气泡和氧气进入溶解的硅。但目前公认能提高结晶速率，但对氧气作用较弱。我认为主要是隔离了坩埚内气泡破裂时二氧化硅粉末进入溶解的硅中，造成鼓包(个人观点)。

至于其他涂层，目前各大坩埚厂家如圣戈班、阳光、飞利浦华都在研究，很多单晶厂也在搞，如峨眉山半导体、康丹克、晶龙等。，但是我还没听说有什么革命性的产品是成功的。

更何况网上出来的都是成熟的。可以看看这两年国外的一些文献和专利。这方面欧美和日韩更强。

希望对你有帮助。