计算光刻和opc有什么区别？

1，OPC技术通过调整掩模图形的透过率分布来校正光学邻近效应，从而提高成像质量。

2.计算光刻是利用计算机模拟光刻过程的光化学反应和物理过程，从理论上指导光刻工艺参数的优化。