中国90nm光刻机能否达到国际水平？

但仍远远落后于国外水平。毕竟国外的光刻机可以做出10纳米以内的芯片，而今年中国离它还很远。中国也在努力追赶这一点，但短期内暂时无法实现。毕竟中国在光刻机这一步起步比国外晚很多。而且很多技术已经被国外垄断，中国只能自主设计，期待有朝一日弯道超车。

中国的芯片水平很难进步，这和人才有关。中国的芯片水平仅限于现在，这个标准和人才有关。中国培养不出相关领域的人才。毕竟中国在这个领域比不上西方。尤其是人才方面，根本无法和西方相比。这也导致了我们没有优秀的工程师，只能从国外高薪聘请工程师。而从国外高薪请来的工程师对技术要求非常严格，一般情况下不会向我们的工程师透露技术，这也导致了我们芯片目前的尴尬水平。

第二点是钱不够。这里说的资金不足并不是投资不足，而是在光刻机上芯片行业利润不足。因为国内市场上的芯片都是国外制造的，国内芯片在我们的市场上没有竞争的空间。这也导致了很多科技公司不愿意开发芯片，这也是中国芯片落后于西方国家的原因之一。

第三点是自主设计没有专利。目前国际芯片设计专利已经被国外光刻机公司垄断，国内能申请的专利很少。基本上芯片设计的专利都申请了，剩下的专利技术对芯片升级用处不大。所以归根结底，以上三点才是中国芯片落后于西方国家的根本原因。