为什么光刻机不需要大学和研究机构操心？中国突破需要几年？

近年来，随着我国科技的高速发展，美国为了保住自己第一科技大国的地位，便开始对我国高新技术企业进行打压，而且手段不断在升级。而在美国所有的制裁手段中，芯片断供成为了他打压我国企业最常用、最有效的手段。

任正非曾表示，我国拥有世界上最顶尖的芯片设计企业，但由于EUV光刻机被卡了脖子，在美国实行芯片断供的政策后，我国无法独自制造出企业发展所需的高端芯片。

众所周知，世界上EUV光刻机做得最好的是荷兰ASML公司，垄断着全球100％的EUV光刻机市场。然而，由于ASML公司的EUV光刻机使用了大量美国的元器件和技术，就不得不遵守美国的商业法律，不能将EUV光刻机卖给我国企业。但是，EUV光刻机又是制造高端芯片的核心设备，高端“中国芯”该如何突破重围呢？

芯片禁令落地之后，中科院发出中国最强音，宣布成立EUV光刻机科研攻关小组，争取在短时间内研制出国产EUV光刻机，为我国企业的发展保驾护航。除此之外，国内也有很多高校开始将研发重心转移到EUV光刻机的研发之中。甚至有的人高呼，我们要集全国之力将EUV光刻机搞出来。

然而，让人想不到的是，任正非却在接待9大高校校长时表示，研发EUV光刻机无需大学和研究机构插手，这是为什么呢？笔者认为，任正非之所以会这样讲，主要还是与科学技术的发展规律有着很大的关系！

众所周知，科技发展有两种情况，一种是科研式研究，做的是基础理论、材料、技术的研发工作；第二种是商业性研究，主要是技术、设备、产品的研发，存在着一定的功利性。

高校和研究机构的强项在于基础研究，在具体产品研究方面存在着很大的短板。因为在取得基础理论的突破后，他们并不知道该如何将这些产品商业化。而企业与高校和研究机构恰恰相反，企业就是在基础理论取得突破后，投入大量资金，将具体产品做出来，然后不断提升他的质量、稳定性、良品率等，最后将它的成本降下来。这些能力都是研究机构和高校所不具备的。所以，如果高校和研究机构都去搞具体的东西，很有可能会失掉自己赖以存活的根本。

台积电创始人张忠谋曾表示，即便是中国集全国之力也造不出EUV光刻机，这让很大一部分人觉得EUV光刻机很神秘、很强大，是世界上最顶尖的东西。其实，光刻机并没有大家想象中的那么难造！

我们之所以会觉得EUV光刻机很难造，一方面是受了张忠谋的影响，另一方面是由于光刻机的市场很小，国内没有大规模制造EUV光刻机的企业，这才让大家觉得ASML公司很牛，能卡住我国芯片制造环节的脖子。

随着智能时代的到来，越来越多的智能电子产品需要芯片的支撑，芯片的消耗量也会越来越大，再者就是以美国为首的西方国家不断对我们进行芯片卡脖子，国内企业光刻机的需求量不断增加，所以我们研发自己的EUV光刻机已迫在眉睫。

其实，我国不是没有光刻机，只不过是没有做成高端而已。但是，随着国内光刻机市场的扩大，美国不断对我们进行封锁，国内企业已经开始在光刻机方面不断投入大量资金，进行技术的研发和更新，尤其是国内已经发现了可用于EUV光刻机的光源，笔者坚信，两三年之后，国产光刻机必定能取得重大突破。