人类在研究光刻机时面临的最大问题是什么？

我们国家一直在走过来，压力也一直很大。技术封锁之类的新闻平时看起来不算新闻，但都是旧闻了。目前，mask aligner的技术在荷兰最有发言权。如果能与之合作，必将加速我国芯片研究的进程。但是国与国之间的合作并不简单。由于美国的压迫，相关技术被封锁至死。所以中国的投资很强，但是没有相应的技术，连制造业项目都很难启动。争取突破并不是奇迹，但在你对对方的系统没有完全了解之前，迈出第一步是很难的。

没有参照物。近年来中国的快速发展其实来自于早期引进后的模仿，但既然中国在这一领域已经落后了几十年，没有参考资料怎么发展？从一张白纸到精彩的两分钟很难，更难的是“独自打破世界”。光刻不是一种技术，而是一种聚合技术。一个阿斯麦光刻机大概有8万个零件，相关技术也是很多科研公司联合的结果。有人形容阿斯麦光刻机是人类高度智慧作品的集合，甚至是艺术品本身。找什么科技公司合作只是一方面的接触，对这个科技集合的产品起不了多大作用。

技术之所以难以突破，是因为光刻机的研究难度非常高，先进的光刻机不是一个国家能做到的，这大大戳中了中国芯片产业的软肋。也就是说，在这种发展难度下，中国要想实现自主芯片的安全可控，国产光刻机必须沿着曲线超车。

要突破先进光刻机相关技术的垄断。荷兰阿斯麦成立于1984，至今已有36年历史。在过去的30年里，与光刻机相关的技术一直牢牢地捆绑在阿斯麦的进口上，形成了技术领域的垄断趋势。我国的光刻企业要想突破空白中间层的技术壁垒，避开阿斯麦拥有的专利，难度会有多大。中国在光刻领域起步相对较晚，美国的封锁，使得行业的发展道路更加曲折。如果有一天，中国在高端光刻领域有所突破，美国是最警惕的。中国的华为就是最明显最实际的例子。