掩模对准器的作用和使用。

光刻机确定芯片的精确尺寸，设计者设计芯片的电路，然后通过光刻机将电路刻在芯片上，其尺度通常在微米级以上。光刻机是芯片生产中最昂贵、技术难度最大的设备，因为它决定了芯片的整体框架和功能。

其实生产高精度芯片并不难，只是生产速度太慢，光刻机可以快速生产高精度芯片，所以很重要。掩模对准器发出的光用于通过具有图案的光掩模曝光涂有光刻胶的薄片。当光刻胶曝光后，其性质会发生变化，从而可以将光掩模上的图案复制到薄片上，从而使薄片具有电子电路图的功能。

对准系统

高精度对准系统的制造需要近乎完美的精密机械技术，这也是国产光刻机无法企及的技术难点之一。很多美国德国品牌的光刻机都有专门的专利机械技术设计。比如Mycron &；q光刻机采用全气动轴承设计专利技术，有效避免轴承机械摩擦带来的工艺误差。

对准系统的另一个技术问题是对准显微镜。为了增强显微镜的视野，很多高端光刻机都采用了LED照明。有两套带聚焦功能的对准系统。主要是1对显微镜主体、目镜和物镜采用双目双视场对准(光刻机通常提供不同放大率的目镜和物镜供用户组合使用)。