陶绪堂授权专利

1.陶绪堂、蒋“高纯度8-羟基喹啉铝化合物及其制备方法和应用”03112443.7

2.闫运兴，陶绪堂，蒋，杨家祥“4-取代氨基苄基磷酸酯的合成方法”ZL03112444.5。

3.陶绪堂、王善鹏、董春明和蒋“一个带衬里的高温高压釜”。中国专利，ZL 20088528。X.

4.陶绪堂、、、蒋“一种用于电致发光器件的红色荧光材料及其制备方法”中国专利，00111328.3。

5.日本专利号2001-131185“硼化合物电致发光材料”

6.日本专利号2002-161270“有机电致发光材料和器件”

7.光学膜及其制造方法”日本专利，JP-A 7-128523。