“蚀刻机”和“光刻机”一样重要是怎么造出来的？

蚀刻比光刻容易。光刻机把设计打印出来，然后蚀刻机根据打印出来的图案把有图案(或者没有图案)的部分蚀刻掉，剩下的就留下了。

光刻？是指用预先制作好的光掩模覆盖在涂有光刻胶的晶片(或硅片)上，然后通过光掩模用紫外线照射晶片一定时间。原理是利用紫外光使部分光刻胶变质，容易腐蚀。

蚀刻？光刻后，用蚀刻液将变质的光刻胶蚀刻掉(正胶)，半导体器件及其连接图形显示在晶片表面。然后使用另一种蚀刻溶液蚀刻晶片以形成半导体器件及其电路。

65438年至0944年，尹志尧出生于北京一个爱国家庭。他的爷爷是公费留学生，父亲也是在日本留学然后回到祖国为国家做贡献。

尹志瑶以1962成功考入中科大化学物理系。1968毕业后分配到兰州炼油厂和中科院兰州物理化学研究所工作。1978年，尹志尧再接再厉，考取了北京大学化学系硕士研究生。1980年，他去了加州大学洛杉矶分校继续深造。

之后，尹志耀在硅谷工作了20年，期间首次加入英特尔公司。1986年，尹志耀受邀加入L5M，主要负责等离子刻蚀设备的研发。1991，应用材料公司请他做等离子刻蚀总部工程技术总监。为了避免知识产权问题，他带领团队白手起家，仅用9年时间，应用材料公司就占据了国际蚀刻机设备市场40%的份额。

在半导体行业，尹志耀持有86项美国专利和200多项各国专利，被公认为硅谷最有成就的华人之一。

然而，当他60岁退休时，尹志耀做了一个大胆的决定。他带着15人的团队回国。2004年，他创办了中威半导体公司，使中国突破了蚀刻机的技术垄断，奠定了中国自主生产芯片的基础。今天，中威半导体公司生产的蚀刻机已经在米粒上刻字1亿字到10亿字的突破，殷志尧对祖国的贡献还在。