光刻机是否还需要依靠中科院首创的2纳米芯片关键技术？

光刻机是现在制约我们芯片发展的一个重要因素。即使我们在两纳米芯片的研发上取得了进展，但光刻机仍然是一个非常棘手的问题。

芯片的自主研发迫在眉睫。

去年美国对中国相关企业实施芯片制裁，拒绝为中国企业提供芯片后，华为立即站出来，推出了华为研发多年的麒麟系列芯片。虽然华为的芯片是救急出来的，但是国内很多行业都感受到了极大的危机感，开始投入到芯片研发的阵营中。

中国国产芯片经过一年多的努力，确实是一波三折。首先要避开美国的阻挠，然后又遇到了先进高端光学客机的困难。目前，中科院提出了首个两纳米芯片的关键技术，采用垂直纳米环栅晶体管生产，是国际公认的两纳米芯片制造领域的关键技术。

未来芯片的发展离不开高端的光刻机。

现在，虽然中国已经可以自主研发，这意味着中国在芯片生产领域处于领先地位，但在相关专家总结研究成果并在杂志上申请专利后，中科院的专家仍然专注于光刻机的研发。经过专家的初步规划，我们将在2024年正式实现纳米芯片的量产，并通过实际应用的考验。

专家希望在未来四年的发展实践中，有更多的中国高端高级人才愿意加入光碟机的R&D，创造属于中国人的成就。目前，荷兰asml公司是光刻机生产领域的王者，也是世界各大芯片产业所依赖的最大对象。此前，中国与这家公司签订了订单合同。

自主研发受限，与外企合作受阻

中国在相关科技领域被美国压制了几十年，导致中国相关领域的核心技术始终无法实现突破，尤其是在制造芯片的关键设备光刻机上。目前我们拥有的精度只能做到45纳米，甚至28纳米的研发技术还在研发中。可见我们在芯片行业有一条非常艰难的路。中国是目前世界上消耗芯片最多的国家，我们在芯片领域的投资已经超过65400。

但目前中国在轻型客机方面的进步还很小。我们在18年以8.2亿的天价从荷兰工厂订购了光刻机。由于他们的意外，我们现在不知道它是否能按时送到我们这里。由于一次事故，这家企业在中国订购的产品没有及时完成。现在有了美国的干涉，以后能不能与之合作还是个未知数。为了突破光刻机中的问题，我们最终必须依靠我们自己的专家团队。