导丝dsa屏蔽路径模式

方法是通过光学投影将掩模上的图案投影到样品表面进行图案转移。在导丝DSA中，电子束由电子掩模对准器控制，图案直接写在样品表面。该技术具有高分辨率、高精度和高灵活性的优点，可以实现非常复杂的微纳结构。直写光束光刻和掩模光刻是两种常用的微纳加工技术。