集成电路布图设计的专利保护

集成电路布图设计本质上是一种图形设计，但不是工业品外观设计，不能受专利法保护。因为，从专利法的保护对象来看，对产品、方法或者其改进所提出的新的技术方案，要求具有创造性、新颖性和实用性。这对于集成电路的布局设计通常是困难的。从专利获取的程序看，专利申请审批时间过长，成本高，不利于技术的推广应用。

集成电路布图设计虽然在形式上是一种图形设计，但它既不是某种思想的表达，也不具有艺术性，因此不在作品之列，不能受到著作权法的保护。此外，集成电路的布图设计更新很快。如果布图设计受著作权法保护，著作权的保护期会过长，不利于集成电路产业的发展。

由于现有的专利法和著作权法不能有效保护集成电路布图设计，世界上许多国家都通过单独立法来确认布图设计专有权，即保护其他知识产权。美国是第一个立法保护布图设计的国家。随后，日本、瑞典、英国、德国等国家也制定了各自的布图设计法。

1989年5月，世界知识产权组织通过了《集成电路知识产权条约》。此外,《知识产权协定》用专节规定了集成电路的布图设计，缔约方根据上述公约的有关规定对布图设计提供保护。

我国对集成电路布图设计的保护相对较晚。2001年3月28日，国务院通过《集成电路布图设计保护条例》，该条例自2001年3月28日起施行。根据《集成电路布图设计保护条例》，现制定《集成电路布图设计保护条例实施细则》，自2001、10、1起施行。根据《中华人民共和国集成电路设计保护条例》，制定《集成电路布图设计行政执法办法》，自2001 11 28起施行。