Euv取消专利
按照国务院的规划，到2025年国产芯片自给率将达到70%。2019年，这个数字是30%左右。
目前，中国的芯片产业面临两大问题。如果能克服这两个困难，自给率70%的目标就不成问题。
前门资产投资研究总监宣继游在接受《证券日报》采访时表示，制造工艺、光刻机和工业软件是制约我国半导体芯片发展的两大因素。
光刻机直接关系到半导体制造精度，决定了芯片最先进的工艺。
为了突破10nm芯片工艺节点，光源波长为13.5nm的EUV光刻机必不可少。这就是为什么三星和台积电每年都要争夺阿斯麦EUV光刻机的产能。
目前，阿斯麦是世界上唯一能生产EUV光刻机的公司。
但中国要突破光刻机问题，难度极大。光刻机被誉为“现代半导体行业皇冠上的明珠”，技术含量很高，可以说是现代顶尖技术的结晶。
在阿斯麦背后，只有在5000家供应商的支持下，才能生产出EUV光刻机。所以中国和光刻机很难突破。
工业软件是工业制造命脉。其中，EDA作为“芯片之母”，位于整个芯片产业的最上游，很容易卡在全球芯片产业的脖子上。
遗憾的是，中国的EDA产业正在被海外垄断。美国的Candence、Synopsys和Mentor Graphics占据了中国95%的市场。
华为、中兴、联想等。全部采用以上企业的EDA产品。
这必须引起警惕。好在中国在EDA领域有了小小的突破，其中华大九天是国内EDA的领头羊。
如今，华大九天已将用于晶圆制造的EDA工具等产品商业化，赢得紫光展锐、华为等400多家客户。
从上面可以看出，国产芯片想要弯道超车并不是一件容易的事情，需要克服很多困难。
宣继游还表示，从根本上解决这两个问题的可能性很低，需要“重点关注过了专利期的普通产品是否可以复制，提高芯片的自给率”。
近年来，中国出台了越来越多的政策来加速半导体产业的进步。
同时，中国是全球最大的半导体市场，巨大的需求将刺激中国相关企业的发展。越来越多的资本也涌入了中国的半导体行业。
受此影响，中国实现70%芯片自给的目标还是有很大希望的。